反滲透水處理設備
半導體純水電(dian)阻率
半導體中的雜質對電阻率的影響非常大。半導體中摻入微量雜質時，雜質原子附近的周期勢場受到干擾并形成附加的束縛狀態，在禁帶中產加的雜質能級。例如四價元素鍺或硅晶體中摻入五價元素磷、砷、銻等雜質原子時，雜質原子作為晶格的一分子，其五個價電子中有四個與周圍的鍺（或硅）原子形成共價結合，多余的一個電子被束縛于雜質原子附近，產生類氫能級。雜質能級位于禁帶上方靠近導帶底附近。雜質能級上的電子很易激發到導帶成為電子載流子。這種能提供電子載流子的
雜(za)質稱(cheng)為(wei)施(shi)主(zhu)，相應能(neng)級(ji)稱(cheng)為(wei)施(shi)主(zhu)能(neng)級(ji)。施(shi)主(zhu)能(neng)級(ji)上(shang)的電(dian)子躍遷(qian)到導帶所需(xu)能(neng)量(liang)比從價帶激發到導帶所需(xu)能(neng)量(liang)小得多
半導體芯片清洗超純水設備出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準
（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。
新興的光電材料生產、加工、清洗；LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業、
FPC/PCB線路(lu)板、電路(lu)板、大規模、超大規模集(ji)成電路(lu)需用大量的(de)(de)高純水、超純水清洗半成品、成品。集(ji)成電路(lu)的(de)(de)集(ji)成度越高，對水質的(de)(de)要求也(ye)越高，這也(ye)對超純水處理工藝及產(chan)品的(de)(de)簡易性(xing)、自動化程度、生產(chan)的(de)(de)連續(xu)性(xing)、可持(chi)續(xu)性(xing)等提出了更加嚴格(ge)的(de)(de)要求。
