單級反滲透設備在水處理中的應用與注意事項
來源(yuan)：大(da)連超純(chun)水設備有限公司 閱讀：3314 更新時(shi)間：2012-08-31 16:09單級反(fan)滲透設備(bei)在運作時(shi)的工藝流程具體如下：原水(shui)罐→添加混凝劑(ji)→原水(shui)泵→多介質過濾器→去(qu)除游離氯以及(ji)有機物→軟化水(shui)設備(bei)/加藥阻垢裝置→精密過濾器→紫(zi)外線殺(sha)菌。
反滲透工(gong)(gong)藝在(zai)純水(shui)、超純水(shui)制備系統(tong)工(gong)(gong)程(cheng)中(zhong)的應用,不但能提(ti)高了產水(shui)品質,降低生產成本,而且防止(zhi)環境污染(ran),有力地推進了電子工(gong)(gong)業的進步,同時也促進了純水(shui)、超純水(shui)制造技術的發(fa)展.
反滲透在電子行業的應(ying)用
電(dian)子(zi)元(yuan)器件的(de)制造需要大(da)量高品(pin)質(zhi)(zhi)的(de)純(chun)(chun)水(shui)(shui)、超純(chun)(chun)水(shui)(shui),電(dian)子(zi)級超純(chun)(chun)水(shui)(shui)是目前世界上(shang)純(chun)(chun)凈品(pin)質(zhi)(zhi)要求(qiu)最高的(de)水(shui)(shui).電(dian)子(zi)工業用的(de)超純(chun)(chun)水(shui)(shui)，例如廣泛用于(yu)生(sheng)產(chan)計(ji)算(suan)機硬盤(pan)，集(ji)成電(dian)路(lu)芯片，半(ban)導體(ti)，顯像管，液晶(jing)顯示(shi)器，線(xian)路(lu)板等用的(de)純(chun)(chun)水(shui)(shui)，對水(shui)(shui)的(de)純(chun)(chun)度要求(qiu)較高，對出(chu)水(shui)(shui)電(dian)阻率的(de)要求(qiu)達到上(shang)(MΩ.cm)級。
隨著電子工業(ye)的(de)(de)發展(zhan)對高(gao)(gao)純水(shui)(shui)提出了越來(lai)越高(gao)(gao)的(de)(de)要求(qiu)。例如，制作16K位(wei)DRAM允許水(shui)(shui)中(zhong)TOC(總有機碳)為500ppb、金(jin)(jin)屬(shu)離(li)子為1ppb、≥0.2μm的(de)(de)顆粒(li)為100個/毫升;而制作16M位(wei)DRAM時，則要求(qiu)TOC<5ppb、金(jin)(jin)屬(shu)離(li)子<0.2ppb、水(shui)(shui)中(zhong)≥0.1μm顆粒(li)數(shu)為0.6個/升。單級反滲透(tou)設(she)備，水(shui)(shui)處(chu)理(li)設(she)備，純凈水(shui)(shui)處(chu)理(li)設(she)備
可(ke)以說在電子(zi)(zi)級超(chao)(chao)純水制備(bei)(bei)系統(tong)中(zhong)匯集了當前水處理技術最先(xian)進的(de)工藝(yi)和設(she)(she)備(bei)(bei),如超(chao)(chao)濾、微濾、反(fan)滲透、膜脫氣、電去(qu)離子(zi)(zi)(EDI)等,其(qi)中(zhong)反(fan)滲透裝(zhuang)置是整(zheng)個純水、超(chao)(chao)純水制備(bei)(bei)系統(tong)工程中(zhong)一關鍵的(de)設(she)(she)備(bei)(bei).它能有效地(di)去(qu)除(chu)原水中(zhong)97%以上(shang)的(de)溶(rong)解性無機物(wu)質、99%以上(shang)的(de)相對分子(zi)(zi)質量(liang)大于300的(de)有機物(wu)、99%以上(shang)的(de)包括(kuo)細(xi)菌在內的(de)各種微粒和95%以上(shang)的(de)二氯化硅.
反滲透工(gong)藝(yi)在純(chun)水(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)制備系統工(gong)程中的應(ying)用,不但能提(ti)高了產水(shui)品質,降低(di)生產成(cheng)本,而且防(fang)止(zhi)環境污染,有力地(di)推(tui)進(jin)了電子工(gong)業的進(jin)步,同時也促(cu)進(jin)了純(chun)水(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)制造技(ji)術的發展.
在(zai)我(wo)國(guo)RO應(ying)用(yong)(yong)于電(dian)子工業水(shui)處(chu)理的(de)報道(dao)，最早可(ke)追溯到(dao)1981年，RO技術就(jiu)己(ji)成功(gong)應(ying)用(yong)(yong)于大(da)規(gui)(gui)模(mo)集(ji)成電(dian)路(lu)超純水(shui)制(zhi)備。此后，不斷出現RO制(zhi)取(qu)超純水(shui)工藝流(liu)程研(yan)究和更大(da)規(gui)(gui)模(mo)超純水(shui)制(zhi)備的(de)報道(dao)。2004年4月，國(guo)家海洋(yang)局杭州水(shui)處(chu)理技術開(kai)發(fa)中(zhong)心為樂金飛利浦曙(shu)光電(dian)子有限公司設計和建成的(de)13Om3/hRO彩(cai)色顯象(xiang)管(guan)廢水(shui)回收項目(mu)是(shi)RO純水(shui)制(zhi)備技術在(zai)電(dian)子工業領域應(ying)用(yong)(yong)的(de)拓(tuo)展。該項目(mu)是(shi)迄今我(wo)國(guo)第(di)一個較大(da)規(gui)(gui)模(mo)進行(xing)彩(cai)色顯象(xiang)管(guan)生產企業廢水(shui)回用(yong)(yong)項目(mu)。
混凝(ning)劑(ji)(ji)主要用于除(chu)去水中(zhong)微小(xiao)粒徑(jing)的懸(xuan)(xuan)浮(fu)(fu)物膠(jiao)體(ti)。因為這些微小(xiao)的顆粒在水中(zhong)難以(yi)(yi)沉淀，而且難以(yi)(yi)去除(chu)。它是通(tong)過(guo)在原(yuan)水中(zhong)投(tou)加(jia)混凝(ning)劑(ji)(ji)，使(shi)之(zhi)與水中(zhong)懸(xuan)(xuan)浮(fu)(fu)物及(ji)膠(jiao)體(ti)生成較(jiao)大(da)絮片，然后通(tong)過(guo)多介質(zhi)過(guo)濾器(qi)過(guo)濾去除(chu)。當(dang)原(yuan)水中(zhong)鐵的含(han)量(liang)和懸(xuan)(xuan)浮(fu)(fu)物的含(han)量(liang)較(jiao)小(xiao)時，預(yu)處理(li)可以(yi)(yi)不(bu)采用此裝(zhuang)置。當(dang)水中(zhong)懸(xuan)(xuan)浮(fu)(fu)物及(ji)膠(jiao)體(ti)物質(zhi)的含(han)量(liang)比(bi)較(jiao)高時，一般需要使(shi)用混凝(ning)劑(ji)(ji)添(tian)加(jia)裝(zhuang)置。
單級(ji)反滲透設備工藝流(liu)程與(yu)使用注意(yi)事項(xiang)
單(dan)(dan)級反(fan)滲透設(she)(she)備在運作時的工藝流程具(ju)體如下：原(yuan)(yuan)水罐(guan)→添(tian)加混凝劑→原(yuan)(yuan)水泵→多介質過(guo)濾器(qi)→去除游(you)離氯以及有機物(wu)→軟化水設(she)(she)備/加藥阻垢裝(zhuang)置(zhi)→精密過(guo)濾器(qi)→紫外線殺菌。單(dan)(dan)級反(fan)滲透設(she)(she)備，水處(chu)理設(she)(she)備，純(chun)凈水處(chu)理設(she)(she)備
一、原水罐。
原(yuan)水(shui)(shui)罐用于儲(chu)存原(yuan)水(shui)(shui)，減小因為原(yuan)水(shui)(shui)管中(zhong)水(shui)(shui)壓不穩定對水(shui)(shui)處理系統造成的沖擊，同時用于沉淀地下水(shui)(shui)中(zhong)的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質。
二(er)、添加混凝劑。
混凝(ning)劑主要用(yong)于除(chu)去(qu)水(shui)(shui)中(zhong)微小粒徑的(de)(de)(de)懸浮(fu)(fu)物(wu)膠(jiao)體。因為這些(xie)微小的(de)(de)(de)顆(ke)粒在水(shui)(shui)中(zhong)難(nan)以沉淀，而且(qie)難(nan)以去(qu)除(chu)。它是通過在原水(shui)(shui)中(zhong)投加混凝(ning)劑，使之與水(shui)(shui)中(zhong)懸浮(fu)(fu)物(wu)及膠(jiao)體生成較(jiao)大絮(xu)片，然后通過多(duo)介質過濾器過濾去(qu)除(chu)。當(dang)(dang)原水(shui)(shui)中(zhong)鐵的(de)(de)(de)含量(liang)(liang)和懸浮(fu)(fu)物(wu)的(de)(de)(de)含量(liang)(liang)較(jiao)小時，預(yu)處理可(ke)以不采(cai)用(yong)此(ci)裝(zhuang)置(zhi)(zhi)。當(dang)(dang)水(shui)(shui)中(zhong)懸浮(fu)(fu)物(wu)及膠(jiao)體物(wu)質的(de)(de)(de)含量(liang)(liang)比較(jiao)高時，一般需要使用(yong)混凝(ning)劑添加裝(zhuang)置(zhi)(zhi)。
三、原水泵。
原水泵可以恒定系(xi)統供水壓力，穩定供水量。
四、多(duo)介質過濾器。
采用(yong)多次過濾層的過濾器，主(zhu)要目的是去(qu)除(chu)原水中顆粒在20um以(yi)上(shang)的雜質，可(ke)選用(yong)手(shou)動(dong)閥門控制或者全(quan)自(zi)動(dong)控制器進行反(fan)沖(chong)洗、正沖(chong)洗等一系列操作(zuo)。保證設(she)備(bei)的產水質量，延長設(she)備(bei)的使用(yong)壽(shou)命(ming)。單級反(fan)滲透設(she)備(bei)，水處理設(she)備(bei)，純凈(jing)水處理設(she)備(bei)
五、除(chu)去水(shui)中游離氯和有(you)機物。
游離氯(lv)可以氧(yang)化破壞反滲(shen)(shen)透(tou)膜，反滲(shen)(shen)透(tou)設(she)備一(yi)(yi)般(ban)要(yao)求進(jin)水(shui)余氯(lv)<0.1ppm;有(you)(you)(you)(you)機物(wu)(wu)不僅是微生物(wu)(wu)的(de)(de)(de)餌料(liao)，而且當其濃縮到一(yi)(yi)定程度后，可以溶解有(you)(you)(you)(you)機膜材料(liao)，使膜性(xing)能劣化。水(shui)中(zhong)有(you)(you)(you)(you)機物(wu)(wu)種類繁多，不同的(de)(de)(de)有(you)(you)(you)(you)機物(wu)(wu)對(dui)反滲(shen)(shen)透(tou)膜的(de)(de)(de)危害也不一(yi)(yi)樣，因而在反滲(shen)(shen)透(tou)預處(chu)理(li)系(xi)統設(she)計時，如果水(shui)中(zhong)總有(you)(you)(you)(you)機碳(TOC)的(de)(de)(de)含(han)量超過2mg/L，一(yi)(yi)般(ban)需要(yao)進(jin)行處(chu)理(li)，對(dui)于以自(zi)來(lai)水(shui)為水(shui)源的(de)(de)(de)凈化系(xi)統，活性(xing)炭吸附是必要(yao)的(de)(de)(de)，因為地表(biao)水(shui)中(zhong)有(you)(you)(you)(you)機物(wu)(wu)含(han)量較高。
由于(yu)活(huo)性(xing)炭吸附(fu)法(fa)設備簡單(dan)(dan)，投資小，運行操作(zuo)簡單(dan)(dan)，處理效(xiao)果(guo)容易(yi)控制等優點，所以廣泛的應用于(yu)水(shui)處理凈化系統中。
六、軟化水設備(bei)/加藥阻垢裝置(zhi)。
軟(ruan)化(hua)(hua)是利(li)用離(li)子(zi)交換樹脂與水(shui)中(zhong)(zhong)(zhong)的(de)鈣(gai)(gai)鎂(mei)等離(li)子(zi)進行(xing)交換，將水(shui)中(zhong)(zhong)(zhong)的(de)鈣(gai)(gai)鎂(mei)離(li)子(zi)去(qu)除。軟(ruan)化(hua)(hua)的(de)優點是可以比較徹底地去(qu)除水(shui)中(zhong)(zhong)(zhong)鈣(gai)(gai)鎂(mei)離(li)子(zi)，避免(mian) 這(zhe)些離(li)子(zi)在反滲透(tou)裝置中(zhong)(zhong)(zhong)結垢，其缺點是設備投資高，運行(xing)到一定(ding)時間(jian)后(hou)需要(yao)進行(xing)再生。
添加(jia)阻(zu)(zu)垢(gou)劑可以延緩鹽晶體成(cheng)(cheng)長(chang)來推遲沉淀過程，采用此方法也可防止反滲(shen)(shen)(shen)透(tou)(tou)的(de)(de)結垢(gou)污染。但是由于鈣(gai)鎂離(li)子(zi)仍然存在于水中，反滲(shen)(shen)(shen)透(tou)(tou)出水的(de)(de)鈣(gai)鎂離(li)子(zi)會比使用軟化(hua)要(yao)高，而采用加(jia)藥阻(zu)(zu)垢(gou)的(de)(de)方式較(jiao)易實現自動化(hua)控制，且(qie)設(she)(she)備簡單成(cheng)(cheng)本較(jiao)低(di)。另(ling)外使用阻(zu)(zu)垢(gou)劑還可以減(jian)低(di)硅沉淀，而軟化(hua)則不能，這一點(dian)非常適合地(di)下水水源處理。軟化(hua)設(she)(she)施的(de)(de)成(cheng)(cheng)本與流量(liang)成(cheng)(cheng)正(zheng)比關系，而阻(zu)(zu)垢(gou)劑添加(jia)設(she)(she)施的(de)(de)成(cheng)(cheng)本與流量(liang)關系不大，因此，雙級反滲(shen)(shen)(shen)透(tou)(tou)和器型系統，多采用阻(zu)(zu)垢(gou)劑添加(jia)系統。
七(qi)、精密過濾器。
其(qi)作(zuo)用(yong)是截留原水(shui)中的(de)大于5微米的(de)顆粒，以保(bao)證反(fan)滲透膜不被大顆粒的(de)懸浮物劃傷。單級反(fan)滲透設備，水(shui)處(chu)理(li)設備，純凈水(shui)處(chu)理(li)設備
因(yin)為(wei)反(fan)滲透(tou)膜的(de)厚度約為(wei)10微(wei)米左右，原水(shui)中(zhong)較(jiao)大的(de)顆(ke)粒(li)經高(gao)壓泵加速后極易劃傷反(fan)滲透(tou)膜表面的(de)脫鹽表皮層(ceng)或可(ke)能擊(ji)穿反(fan)滲透(tou)膜組件，因(yin)而一般反(fan)滲透(tou)設(she)(she)備前都要安裝5微(wei)米精密過(guo)濾(lv)器(qi)。采用(yong)精密過(guo)濾(lv)器(qi)對進水(shui)中(zhong)殘留的(de)懸浮物、非曲直粒(li)物及膠體等物質(zhi)去除，使RO反(fan)滲透(tou)設(she)(she)備運行更安全、更可(ke)靠。
反滲透設備使(shi)用(yong)前(qian)應注意的(de)問題
反滲透(tou)設備(bei)要(yao)求用自(zi)來水(shui)(shui)為水(shui)(shui)源，用戶多(duo)(duo)將其(qi)與自(zi)來水(shui)(shui)相接就使用，在安(an)裝(zhuang)時(shi)(shi)沒考(kao)慮預留清洗口;由(you)于設備(bei)的(de)自(zi)動(dong)化程(cheng)度(du)高，用戶往(wang)(wang)往(wang)(wang)認為可以象其(qi)它家用設備(bei)一樣，用時(shi)(shi)只要(yao)開機關機就行，缺(que)乏專人(ren)管(guan)理，使用過程(cheng)中(zhong)多(duo)(duo)無(wu)運(yun)行記錄或記錄不(bu)全;運(yun)行時(shi)(shi)多(duo)(duo)為間歇式，亦無(wu)適當(dang)的(de)保(bao)養措(cuo)施，直(zhi)到(dao)設備(bei)的(de)產水(shui)(shui)量很小或者TDS很高時(shi)(shi)才發現問題(ti)，但為時(shi)(shi)已(yi)晚，此時(shi)(shi)采取措(cuo)施，通常(chang)設備(bei)性能(neng)只能(neng)恢復60%～70%的(de)水(shui)(shui)平(ping)，已(yi)造成(cheng)(cheng)了永久損失;發現問題(ti)時(shi)(shi)多(duo)(duo)在生產的(de)高峰期，往(wang)(wang)往(wang)(wang)造成(cheng)(cheng)停產和不(bu)必要(yao)的(de)經(jing)濟損失。
同(tong)時，我們(men)在使用之(zhi)前還要注意以下(xia)因素(su)：
首先(xian)，自(zi)備一(yi)套余氯比色測(ce)定計(ji)。目前所使(shi)用(yong)的(de)反滲透(tou)設備的(de)膜(mo)多為低壓的(de)聚(ju)酰(xian)胺膜(mo)，該膜(mo)在使(shi)用(yong)中不耐氯，尤其在重金屬離子(zi)的(de)作(zuo)用(yong)下，易氧化造成永久性(xing)的(de)損(sun)(sun)壞(huai);自(zi)來水多含重金屬離子(zi)，在活性(xing)炭(tan)失效后，極易損(sun)(sun)壞(huai)膜(mo)。自(zi)來水余氯和(he)有(you)機物的(de)含量是變化的(de)，僅(jin)(jin)僅(jin)(jin)靠計(ji)算(suan)(suan)和(he)估計(ji)是不夠的(de)，活性(xing)炭(tan)的(de)失效要以測(ce)試為準(zhun)，這樣既可避免(mian)過早(zao)更換(huan)的(de)浪費和(he)過遲更換(huan)引(yin)起的(de)膜(mo)損(sun)(sun)壞(huai)。該比色計(ji)的(de)價格便(bian)(bian)宜，操作(zuo)也方便(bian)(bian)。可在計(ji)算(suan)(suan)的(de)更換(huan)期前10d開始每天測(ce)定。
單(dan)級反滲透設(she)備在水處(chu)理(li)中的應用與注意事項
單級反滲(shen)透設(she)備(bei)在運作時的工藝流程具(ju)體如(ru)下：原(yuan)水罐→添加混凝(ning)劑(ji)→原(yuan)水泵→多介質過(guo)濾(lv)器→去除游(you)離氯以(yi)及有機物→軟化水設(she)備(bei)/加藥阻垢裝置(zhi)→精密(mi)過(guo)濾(lv)器→紫(zi)外線(xian)殺菌。
反滲透工(gong)藝在純(chun)水(shui)(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)(shui)制(zhi)備(bei)系統工(gong)程(cheng)中的應(ying)用,不但能提高了產水(shui)(shui)品質,降低生產成本,而且防止環(huan)境污染,有力(li)地推進(jin)了電子工(gong)業的進(jin)步,同時(shi)也促進(jin)了純(chun)水(shui)(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)(shui)制(zhi)造技術的發(fa)展.單(dan)級反滲透設備(bei)，水(shui)(shui)處理設備(bei)，純(chun)凈水(shui)(shui)處理設備(bei)
反滲透在電子(zi)行業的應用
電子(zi)元器件的(de)(de)(de)制(zhi)造(zao)需要大量高(gao)品(pin)(pin)質(zhi)的(de)(de)(de)純(chun)水(shui)、超(chao)純(chun)水(shui),電子(zi)級超(chao)純(chun)水(shui)是目前世界上(shang)純(chun)凈品(pin)(pin)質(zhi)要求最高(gao)的(de)(de)(de)水(shui).電子(zi)工業(ye)用(yong)的(de)(de)(de)超(chao)純(chun)水(shui)，例如廣泛用(yong)于生(sheng)產計算機硬盤(pan)，集成(cheng)電路芯片，半導體，顯像管，液晶顯示器，線路板等用(yong)的(de)(de)(de)純(chun)水(shui)，對(dui)水(shui)的(de)(de)(de)純(chun)度(du)要求較高(gao)，對(dui)出水(shui)電阻率的(de)(de)(de)要求達到上(shang)(MΩ.cm)級。
隨著電子(zi)工(gong)業(ye)的(de)(de)發展對高純水(shui)提出了越來越高的(de)(de)要(yao)求(qiu)。例如，制作16K位DRAM允許水(shui)中TOC(總有機碳)為500ppb、金屬離子(zi)為1ppb、≥0.2μm的(de)(de)顆粒為100個(ge)/毫升;而(er)制作16M位DRAM時，則要(yao)求(qiu)TOC<5ppb、金屬離子(zi)<0.2ppb、水(shui)中≥0.1μm顆粒數為0.6個(ge)/升。
可以說在電子(zi)(zi)級超(chao)純(chun)水(shui)(shui)制(zhi)(zhi)備系統中(zhong)匯集(ji)了當(dang)前(qian)水(shui)(shui)處理(li)技術最先進的(de)工藝(yi)和(he)(he)設備,如(ru)超(chao)濾(lv)、微濾(lv)、反滲(shen)透(tou)、膜脫氣(qi)、電去離子(zi)(zi)(EDI)等,其中(zhong)反滲(shen)透(tou)裝置(zhi)是整個純(chun)水(shui)(shui)、超(chao)純(chun)水(shui)(shui)制(zhi)(zhi)備系統工程中(zhong)一(yi)關鍵的(de)設備.它能有(you)(you)效地去除原水(shui)(shui)中(zhong)97%以上(shang)的(de)溶解性無機物質、99%以上(shang)的(de)相對分子(zi)(zi)質量大于300的(de)有(you)(you)機物、99%以上(shang)的(de)包括細菌在內的(de)各種微粒(li)和(he)(he)95%以上(shang)的(de)二氯化(hua)硅(gui).
反滲透工藝在純(chun)水、超(chao)純(chun)水制備系統工程(cheng)中(zhong)的(de)應(ying)用(yong),不但能提高了(le)產水品質(zhi),降(jiang)低生產成本,而且防止環境污染,有力地(di)推進了(le)電子(zi)工業(ye)的(de)進步,同時也促進了(le)純(chun)水、超(chao)純(chun)水制造技術的(de)發展.
在我國RO應(ying)用(yong)于(yu)電子工業水(shui)(shui)(shui)處理(li)的報道，最(zui)早(zao)可追溯到1981年(nian)，RO技(ji)術(shu)(shu)就己成功(gong)應(ying)用(yong)于(yu)大(da)規(gui)模集成電路超純水(shui)(shui)(shui)制(zhi)備(bei)。此后，不斷出現RO制(zhi)取超純水(shui)(shui)(shui)工藝(yi)流(liu)程(cheng)研究和更大(da)規(gui)模超純水(shui)(shui)(shui)制(zhi)備(bei)的報道。2004年(nian)4月，國家海洋(yang)局杭州水(shui)(shui)(shui)處理(li)技(ji)術(shu)(shu)開發(fa)中心為樂(le)金(jin)飛利(li)浦曙光電子有限公司設(she)計和建成的13Om3/hRO彩色顯象管(guan)廢水(shui)(shui)(shui)回(hui)收項目是RO純水(shui)(shui)(shui)制(zhi)備(bei)技(ji)術(shu)(shu)在電子工業領域應(ying)用(yong)的拓展。該項目是迄今我國第一個較大(da)規(gui)模進行彩色顯象管(guan)生產(chan)企(qi)業廢水(shui)(shui)(shui)回(hui)用(yong)項目。單級反滲透設(she)備(bei)，水(shui)(shui)(shui)處理(li)設(she)備(bei)，純凈(jing)水(shui)(shui)(shui)處理(li)設(she)備(bei)
混(hun)凝(ning)劑(ji)主要用(yong)(yong)于除(chu)去(qu)水(shui)中(zhong)(zhong)微小(xiao)粒徑(jing)的(de)(de)懸浮(fu)(fu)(fu)物(wu)膠(jiao)體。因為這些(xie)微小(xiao)的(de)(de)顆(ke)粒在水(shui)中(zhong)(zhong)難以(yi)沉淀，而(er)且難以(yi)去(qu)除(chu)。它(ta)是通(tong)過在原水(shui)中(zhong)(zhong)投加(jia)混(hun)凝(ning)劑(ji)，使之與水(shui)中(zhong)(zhong)懸浮(fu)(fu)(fu)物(wu)及膠(jiao)體生成較(jiao)大(da)絮(xu)片，然后通(tong)過多(duo)介質過濾(lv)器過濾(lv)去(qu)除(chu)。當原水(shui)中(zhong)(zhong)鐵的(de)(de)含量(liang)和懸浮(fu)(fu)(fu)物(wu)的(de)(de)含量(liang)較(jiao)小(xiao)時，預處理可以(yi)不采(cai)用(yong)(yong)此裝置。當水(shui)中(zhong)(zhong)懸浮(fu)(fu)(fu)物(wu)及膠(jiao)體物(wu)質的(de)(de)含量(liang)比較(jiao)高時，一般需要使用(yong)(yong)混(hun)凝(ning)劑(ji)添加(jia)裝置。
