反滲透進水要求有哪幾種？
來源：沈陽萊特萊德(de)水處理系(xi)統有限(xian)公司 閱(yue)讀：2336 更新時間：2012-02-08 09:26反滲透進水要求有哪幾種？
⑴細菌 純(chun)凈水(shui)處理設備,醫院純(chun)凈水(shui)設備,藥廠(chang)純(chun)凈水(shui)設備
反滲透設備(bei)由于細菌(jun)會以醋酸纖維為(wei)食物(wu)，因此醋酸膜(mo)易受細菌(jun)侵(qin)襲，對原水必須徹底殺菌(jun)，對于復合膜(mo)，雖然其(qi)不(bu)受細菌(jun)侵(qin)襲，但細菌(jun)黏膜(mo)會造成(cheng)膜(mo)的(de)污堵(du)，一般(ban)可采取加(jia)氯殺菌(jun)，加(jia)氯量要根(gen)據需氯實驗(yan)加(jia)以確定。
醋酸纖維膜素要求給水中(zhong)含有(you)殘余(yu)氯，以(yi)防細菌滋生，而氯含量過(guo)高又會破壞(huai)膜，最大允(yun)許連續余(yu)氯的含量為(wei)1mg/L。
復合(he)膜抗(kang)氯(lv)性(xing)差，一般不(bu)允許含有(you)余氯(lv)，采取(qu)加氯(lv)殺菌后，需(xu)加偏亞(ya)硫酸鈉，它可水解為(wei)亞(ya)硫酸氫(qing)鈉或經活性(xing)碳過(guo)濾消(xiao)除(chu)余氯(lv)。
使用偏(pian)亞(ya)硫酸鈉偏(pian)亞(ya)硫酸氫鈉除余氯的(de)反應如下(xia)
Na2S2O5+H2O→2NaHSO3
NaHSO3+HClO→HCl+NaHSO4
理(li)論上，1．34kg的(de) Na2S2O5可以(yi)去除1kg余氯，然而一般(ban)在溶解氧的(de)情況(kuang)下，對(dui)苦(ku)咸水去除1kg余氯需投(tou)加3 kg Na2S2O5。
Na2S2O5在涼爽干燥的(de)儲存條件(jian)下(xia)，貨架上的(de)有效(xiao)期為4～6個月，溶液的(de)有效(xiao)期則隨濃度而改變，
當采(cai)用(yong)地(di)下水(shui)(shui)做(zuo)水(shui)(shui)源時，未(wei)被污(wu)染的地(di)下水(shui)(shui)細菌含量很(hen)少，在(zai)這種情況下采(cai)用(yong)復合膜則即不需加氯也無需除(chu)氯。
氯(lv)為(wei)什么會起殺(sha)菌作用？當氯(lv)加到(dao)水里面后(hou)，就會發生下面的(de)反應
Cl2+H2O→HClO+HCl
HClO→H+ +ClO-
HClO為(wei)次(ci)氯酸(suan)，ClO-為(wei)次(ci)氯酸(suan)根，由(you)于H+能被水(shui)里的堿度(du)中和，最后(hou)水(shui)中只剩下 HClO及ClO-。兩者在水(shui)里所占百(bai)分數(shu)主要決定于水(shui)的PH值(zhi)，但水(shui)的溫度(du)也(ye)有影響(xiang)，PH值(zhi)小(xiao) 于7時，水(shui)中HClO占75％，ClO-占25％ ，溫度(du)降(jiang)低(di)時HClO所占比(bi)例還要大，在0℃時HClO增加到83％，而(er)ClO-減到17％。
反滲透設備對于氯氣的(de)(de)(de)殺(sha)菌(jun)(jun)機理有不(bu)同(tong)的(de)(de)(de)說(shuo)法，但比較合理的(de)(de)(de)解釋是(shi)：它(ta)所(suo)生成的(de)(de)(de)次氯酸產(chan)生殺(sha)菌(jun)(jun)作用(yong)(yong)，而(er)不(bu)是(shi)氯本身，也(ye)不(bu)是(shi)它(ta)所(suo)生成的(de)(de)(de)ClO-的(de)(de)(de)作用(yong)(yong)。HClO是(shi)一(yi)個(ge)中(zhong)性分(fen)子，可(ke)以(yi)(yi)擴散到帶(dai)(dai)負(fu)(fu)電(dian)的(de)(de)(de)細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)表面(mian)，并穿過細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)的(de)(de)(de)細(xi)(xi)(xi)(xi)胞(bao)膜(mo)進入細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)內(nei)部，HClO分(fen)子進入細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)后由于Cl原子氧化作用(yong)(yong)破壞了細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)的(de)(de)(de)某種(zhong)酶的(de)(de)(de)系統（酶是(shi)一(yi)種(zhong)蛋白質(zhi)成分(fen)的(de)(de)(de)催(cui)化劑，細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)的(de)(de)(de)氧分(fen)要經過它(ta)的(de)(de)(de)作用(yong)(yong)才能(neng)被吸收），最后導(dao)致(zhi)細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)的(de)(de)(de)死(si)亡，而(er)次氯酸根ClO-雖然也(ye)包括(kuo)一(yi)個(ge)氯原子，但它(ta)帶(dai)(dai)負(fu)(fu)電(dian)，不(bu)能(neng)靠(kao)近(jin)帶(dai)(dai)負(fu)(fu)電(dian)的(de)(de)(de)細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)，所(suo)以(yi)(yi)也(ye)不(bu) 能(neng)穿過細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)的(de)(de)(de)細(xi)(xi)(xi)(xi)胞(bao)膜(mo)進入細(xi)(xi)(xi)(xi)菌(jun)(jun)內(nei)部，因此很難起(qi)殺(sha)菌(jun)(jun)作用(yong)(yong)，這種(zhong)說(shuo)法還可(ke)以(yi)(yi)說(shuo)明水溫(wen)低和PH值低時(shi)殺(sha)菌(jun)(jun)效(xiao)果(guo)比較好的(de)(de)(de)現象。
從上面的(de)(de)化學(xue)方(fang)程(cheng)式(shi)可以看出，加(jia)入水中(zhong)的(de)(de)氯氣只有1/2變成(cheng)HClO的(de)(de)成(cheng)分，另外(wai)的(de)(de)1/2在水中(zhong)產生Cl-，不起殺菌作用。
采用加HClO時的反應如下
HClO+H2O→ HClO+(Na+ ) + (OH-)
從方(fang)程式(shi)可以(yi)看出一個分(fen)子的HClO的作(zuo)用相(xiang)當(dang)于一個分(fen)子的 Cl2。
（2）含鐵量
鐵(tie)的(de)氧(yang)化(hua)速度(du)取決于鐵(tie)的(de)含量(liang)水(shui)中溶(rong)解氧(yang)的(de)濃度(du)和PH值(zhi)，PH值(zhi)越(yue)高氧(yang)化(hua)速度(du)越(yue)快，因此，降低(di)PH值(zhi)可以防止氧(yang)化(hua)。給(gei)水(shui)最大允許(xu)含鐵(tie)量(liang)于含氧(yang)量(liang)和PH值(zhi)的(de)關系如下表示
（3）顆粒物質
反滲透(tou)設(she)備不允許大于5um的顆粒物質(zhi)進入高(gao)壓泵(beng)及(ji)反滲透(tou)組件(jian)，這一點必須確保，以(yi)免損壞設(she)備。
（4）SDI和(he)濁度
SDI必須(xu)小(xiao)于5，越小(xiao)越好(hao)，濁度(du)應小(xiao)于0．2NTU（最(zui)大允許濁度(du)為(wei)1NTU）
（5）油和脂(zhi)
水中不允許(xu)含有油(you)和脂。
（6）有(you)機物
水中的(de)有機(ji)(ji)物(wu)RO膜的(de)影響最為復雜，一些有機(ji)(ji)物(wu)對(dui)(dui)膜的(de)影響不大，而另一些則可(ke)(ke)能造成膜的(de)有機(ji)(ji)污染，對(dui)(dui)于(yu)地表(biao)水應盡量(liang)在凝聚澄清過(guo)(guo)程中 去除有機(ji)(ji)物(wu)，還(huan)可(ke)(ke)以(yi)采用活性碳過(guo)(guo)濾進一步降低有機(ji)(ji)物(wu)含量(liang)。
（7）SiO2
濃水不允許析出SiO2，當(dang)SiO2 過飽和則(ze)可能聚合而形成不溶解的膠體硅或者硅膠而引起結垢。
純(chun)水25℃時，無定形硅的溶(rong)解(jie)度(du)約為100 mg/L（以SiO2計），溶(rong)解(jie)度(du)隨溫(wen)度(du)呈(cheng)直線變化，0℃時為0 mg/L，到40℃時增加到160 mg/L，在中性(xing)PH值(zhi)條件下，溶(rong)解(jie)的只是硅膠；在堿性(xing)溶(rong)液(ye)中，無定形硅的溶(rong)解(jie)度(du)較中性(xing)溶(rong)液(ye)大，主(zhu)要原因是由于(yu)(yu)硅酸電(dian)離(li)，然(ran)而在有(you)鋁(lv)出現時，溶(rong)解(jie)度(du)可能降低很多，原因是由于(yu)(yu)硅酸鋁(lv)的溶(rong)解(jie)度(du)極小的緣故。
如(ru)果(guo) SiO2的濃度太高，則需要預處理或(huo)者降(jiang)低(di)回收率，防(fang)止形成(cheng)硅垢的方(fang)法如(ru)下。
①控制系統回(hui)(hui)收(shou)率。這是一種最容(rong)易的(de)防硅垢的(de)方法，靠降低系統回(hui)(hui)收(shou)率使濃(nong)水中SiO2的(de)濃(nong)度降低到（在(zai)給(gei)定PH值(zhi)和溫(wen)度下(xia)）SiO2的(de)飽和溶解度以(yi)下(xia)。
②采(cai)用石灰軟(ruan)化。一般可降低給水中50％的SiO2或者澄清器(qi)中多加些氯化鐵和鋁酸鈉。
③溫(wen)度(du)(du)控制。因為(wei)無定形SiO2的溶解度(du)(du)取決于溫(wen)度(du)(du)，提(ti)(ti)高(gao)水的溫(wen)度(du)(du)可以防止SiO2結垢，也可以將提(ti)(ti)高(gao)溫(wen)度(du)(du)與降(jiang)低(di)系統回(hui)收率結合使用。
出(chu)(chu)現硅(gui)垢(gou)必須立即清洗，硅(gui)垢(gou)一旦(dan)形成非常難于出(chu)(chu)除。
（1）防垢
必須防止CaCO3 CaSO4 SrSO4 BaSO4 和CaF2垢。
膜(mo)結(jie)垢是(shi)(shi)由于給水中的微溶(rong)鹽在給水濃縮(suo)時超(chao)過了溶(rong)度(du)積而沉淀(dian) 到膜(mo)上，在苦咸(xian)水中，CaCO3和(he)CaSO4通(tong)常都需(xu)(xu)要處(chu)理，其(qi)他(ta)鹽類(lei)SrSO4 BaSO4 和(he)CaF2也需(xu)(xu)要根據計(ji)算(suan)來確定在濃水中是(shi)(shi)否會(hui)超(chao)過溶(rong)解(jie)度(du)極限。
如(ru)果(guo)微溶(rong)鹽 超過(guo)了溶(rong)解極(ji)限，需要(yao)采取以下一種或(huo)幾種方法。
①降低系統回(hui)收率，避(bi)免(mian)超過(guo)溶度積。
②采取離子(zi)交(jiao)換法軟化除去鈣離子(zi)。
③加酸去除碳(tan)酸或重(zhong)碳(tan)酸離子(zi)。
④加阻垢劑。
對(dui)于大多數水(shui)都存(cun)在CaCO3結(jie)垢趨勢，確(que)定給水(shui)的CaCO3結(jie)垢趨勢，對(dui)苦(ku)咸水(shui)一般采用Langelier飽和指(zhi)數（LSI）。
確定是否(fou)結(jie)CaSO4 SrSO4或 BaSO4垢需(xu)要計算濃(nong)水中這些鹽(yan)是否(fou)超過了它們的溶度積(ji)，各(ge)個(ge)鹽(yan)的溶度積(ji)與(yu)濃(nong)水中相應鹽(yan)的離子積(ji)比較
當IPb＞Ksp 有沉淀生成(cheng)
當(dang)IPb=Ksp 無沉(chen)淀(dian)生成
當 IPb＜Ksp 處于臨(lin)界狀態
為防止結垢(gou)，建議IPb≤0．8Ksp。
一般，微溶鹽(yan)的(de)溶解度隨溶液離子強(qiang)度增加而增加，對(dui)大多數苦咸水中遇到的(de)微溶鹽(yan) Ksp作為(wei)離子強(qiang)度函(han)數的(de)數據可供利用。
因為RO過程(cheng)中(zhong)微溶鹽的結垢(gou)趨(qu)勢是由(you)最濃(nong)的水流來(lai)決定(ding)的，所以 Ksp是根據濃(nong)水流的離(li)子強度來(lai)確定(ding)。
（2）進水(shui)參(can)數(shu)方面的要求
①水(shui)(shui)溫(wen)(wen)。反(fan)滲透膜(mo)元件對進水(shui)(shui)的(de)水(shui)(shui)溫(wen)(wen)均有一(yi)定的(de)要求，以海(hai)德能(neng)公司為例，除了其生產的(de)拿高溫(wen)(wen)膜(mo)元件外，其生產的(de)復合膜(mo)要求將進水(shui)(shui)溫(wen)(wen)度控制在0~45℃，其生產的(de)醋酸(suan)纖維素膜(mo)要求將進水(shui)(shui)溫(wen)(wen)度控制在0~40℃。
②最(zui)高(gao)(gao)進(jin)(jin)水(shui)壓(ya)力(li)(li)。反滲(shen)透膜元件對最(zui)高(gao)(gao)壓(ya)力(li)(li)有一定的要求，海(hai)德能公司(si)生產的苦咸水(shui)用(yong)工業膜最(zui)高(gao)(gao)進(jin)(jin)水(shui)壓(ya)力(li)(li)為600psi(4．16Mpa)，其生產的海(hai)水(shui)淡(dan)化膜最(zui)高(gao)(gao)進(jin)(jin)水(shui)壓(ya)力(li)(li)為1200 psi(8．27Mpa)。
③每支(zhi)膜(mo)最高(gao)進水(shui)流量(liang)。反滲透膜(mo)元(yuan)件(jian)對最高(gao)進水(shui)流量(liang)有(you)一定(ding)的要(yao)求，海德能(neng)公司8″膜(mo)元(yuan)件(jian)的最高(gao)進水(shui)流量(liang)為75gpm(17t/h)。4″膜(mo)元(yuan)件(jian)的最高(gao)進水(shui)流量(liang)為16 gpm(3．6t/h)。
④單支膜元件(jian)最高壓(ya)力(li)損(sun)失。考慮(lv)到單支膜元件(jian)的(de)壓(ya)力(li)差太(tai)高時會造成膜元件(jian)的(de)機(ji)械損(sun)傷，因而對單支膜元件(jian)最高壓(ya)力(li)損(sun)失有一定(ding)要求，海德能(neng)公司要求系統中任何一支膜元件(jian)上的(de)最高壓(ya)力(li)損(sun)失不能(neng)超過(guo)68．9 Mpa（10 psi）。
